Le 15 octobre, le III-V Lab, situé à Paris-Saclay (Essonne), célébrait ses 20 ans. Ce laboratoire de recherche sur les semi-conducteurs fondé par Nokia et Thales, rejoints en 2011 par le CEA, travaille à l’intégration des matériaux III et V sur des wafers de silicium. Avec de multiples applications à la clé.
Une machine dont les hublots rappellent le sous-marin de 20 000 lieues sous les mers et qui occupe à elle seule presque toute la largeur d’une des salles blanches du III-V Lab, à Paris-Saclay (Essonne). À l’intérieur, un réacteur accueille des plaques de silicium. Une fois refermé, des tuyaux d’arrivée de gaz génèrent un flux à la surface de la plaque qui, petit à petit, permet d’empiler des couches successives de matériaux III-V sur la plaquette de silicium.
Pour en savoir plus : Au III-V Lab, l’art de créer des semi-conducteurs aux propriétés particulières