Date : 30/10/18
Horaire : 12h30 – 13h30
Format : Visio conférence
Programme : Implantation ionique
Née dans les grands laboratoires de physique dans les années 1970, l’implantation ionique est un processus qui consiste à bombarder la surface d’un matériau dans une chambre sous vide au moyen d’ions sélectionnés et possédant une énergie située entre 50 et 200 keV. Les ions pénètrent la surface du matériau, puis s’arrêtent en perdant leur énergie à la suite de collisions en cascades avec les atomes de la surface. L’implantation des ions dans le matériau peut dès lors en changer ses propriétés physico-chimiques. Si l’implantation ionique est largement utilisée en microélectronique, elle est aussi en développement depuis plusieurs années pour le traitement de surfaces de matériaux. Elle permet d’améliorer les caractéristiques mécaniques, tribologiques, de résistance à la corrosion… de matériaux aussi différents que sont les métaux, les polymères et les céramiques. En utilisant des micro-implanteurs (de taille réduite par rapport aux implanteurs classiques) il est aujourd’hui possible et d’intégrer la technologie à un processus industriel et implanter tout type de matériaux des profondeurs oscillant entre 0 et 3 microns. Le procédé se différencie des dépôts, premièrement du fait d’une délamination impossible résultant d’une modification superficielle du substrat appelée ‘interphase’ et deuxièmement par une moindre exigence de préparation de la pièce à traiter. Les résultats obtenus sont entre autres : une dureté de surface augmentée, une sensibilité à l’oxydation extrêmement réduite, un effet de barrière de diffusion ou une amélioration du coefficient de frottement.
L’exposé sera présenté par Thomas Godfroid, chercheur à l’Université de Mons (Belgique) et leader scientifique chez MateriaNova, centre de R&D spécialisé dans l’élaboration de matériaux innovants.
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